详细摘要： AMAT二手金属化学气相沉积设备CenturaAPISPRINT，针对于300nm晶圆，主机类型为CenturaAP，工艺采用WCVD，拥有4个腔室，3个装载端...
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
青岛佳鼎分析仪器有限公司
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详细摘要： AMAT二手金属化学气相沉积设备CenturaAPISPRINT，针对于300nm晶圆，主机类型为CenturaAP，工艺采用WCVD，拥有4个腔室，3个装载端...
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详细摘要： AMAT等离子化学气相沉积PECVD设备producerse，生产于2003年，采用PETEOS工艺，针对12英寸（300mm）晶圆处理
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详细摘要： ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon2300生产于2003年，针对12寸（300nm）晶圆处理
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详细摘要： ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10采用DARC流程工艺，针对于8英寸晶圆的处理，现货供应
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详细摘要： novellus化学气相沉积mocvd设备vectorexpress，购买于2004年，针对12英寸晶圆设计使用
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
详细摘要： CanonAnelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100于2011年开始投入使用，适用于12英寸晶圆
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-12 在线留言
详细摘要： SAMCO二手刻蚀机PD-3800现货供应，2011年设备，PECVD系统，可对2-6英寸晶圆进行加工处理，已打包封装完成，随时发货
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-05 在线留言
详细摘要： AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率
产品型号：所在地：更新时间：2022-05-27 在线留言
详细摘要： PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的锁载等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统
产品型号：所在地：更新时间：2022-05-27 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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